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光刻膠過濾

光刻的原理是在硅片表面覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠，再用光線（一般是紫外光、深紫外光、極紫外光）透過掩模照射在硅片表面，被光線照射到的光刻膠會發(fā)生反應。此后用特定溶劑洗去被照射/未被照射的光刻膠，就實現(xiàn)了電路圖從掩模到硅片的轉移。光刻工藝對極小污染物的控制苛刻到極致，同時嚴控過濾產(chǎn)品的金屬離子析出。最強耐腐蝕全氟濾芯采用進口PTFE膜，進口PTFE支撐層，全氟骨架經(jīng)過特殊結構設計而制成適用于光刻膠的終端過濾。

主要特點

天然疏水性、耐腐蝕
廣泛的化學相容性
絕對孔徑確保有效過濾
每支濾芯通過完整性檢測

0571-87022016

詳細信息在線留言

材料結構	操作條件	絕對過濾精度(um)
濾材: 疏水聚四氟乙烯膜內芯: 聚丙烯外罩: 聚丙烯端蓋: 聚丙烯墊片/O型圈: 硅橡膠、三元乙丙、氟橡膠、包四氟密封技術: 熱熔焊接	工作溫度：≤80℃ 可耐最大壓差：4 bar (21℃)／2.4bar (80℃) 滅菌方法：121℃/30min蒸汽滅菌	0.05、0.10、0.22、0.45、0.65、0.80、1.20 有效過濾面積 ≥0.65 m2/10〞
生物安全性	濾芯尺寸	完整性測試
內毒素：≤0.25EU/ml 溶出物：≤30mg/10〞	外徑: 68mm 長度: 5〞、10 〞、20 〞、30〞、40〞	起泡點測試（60%IPA）） 0.10um≥4.0bar 0.22um≥3.4bar 0.45um≥2.3bar
應用領域
電子行業(yè)：電子級各類酸、堿、有機試劑過濾。制藥行業(yè)：熔媒除菌過濾、腐蝕性、強氧化性液體、有機試劑等過濾。

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