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CMP工藝

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首頁(yè) 行業(yè)應(yīng)用 微電子 CMP工藝
CMP工藝介紹及用濾芯
CMP，即Chemical Mechanical Polishing，化學(xué)機(jī)械拋光—是一個(gè)化學(xué)腐蝕和機(jī)械摩擦的結(jié)合。CMP技術(shù)所采用的設(shè)備及消耗品包括：拋光機(jī)、拋光漿料、拋光墊、后CMP清洗設(shè)備、拋光終點(diǎn)檢測(cè)及工藝控制設(shè)備、廢物處理和檢測(cè)設(shè)備等。拋光機(jī)、拋光漿料和拋光墊是CMP工藝的3大關(guān)鍵要素，其性能和相互匹配決定CMP能達(dá)到的表面平整水平。其工藝過(guò)程中拋光漿料顆?？刂圃?.5μm以內(nèi)，恒水公司提供的系列過(guò)濾器及折疊濾芯可提供您有效的過(guò)濾解決方案。
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